Übersetzung von "low temperature vapour deposition" ins Russische

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Wörterbuch für "low temperature vapour deposition"

low temperature vapour deposition substantiv

pl. low temperature vapour depositions

низкотемпературное паровое осаждение ср.р.

Kontexte mit "low temperature vapour deposition"

Chemical Vapour Deposition (CVD) is an overlay coating or surface modification coating process wherein a metal, alloy, " composite ", dielectric or ceramic is deposited upon a heated substrate. Химическое осаждение паров (CVD) — это процесс нанесения чисто внешнего покрытия или покрытия с модификацией покрываемой поверхности, когда металл, сплав, «композиционный материал», диэлектрик или керамика наносятся на нагретое изделие.

Do not place the device in high or low temperature. Запрещается использовать смартфон в условиях высоких или низких температур.

Equipment for the chemical vapour deposition of elements or compounds on heated filamentary substrates to manufacture silicon carbide fibres; Оборудование для осаждения паров химических элементов или сложных веществ на нагретую нитевидную подложку с целью производства карбид-кремниевых волокон;

High or low temperature may damage the device and battery or affect its normal performance. При высоких или низких температурах возможно повреждение устройства и аккумулятора или ухудшение их рабочих характеристик.

Zinc selenide (ZnSe) and zinc sulphide (ZnS) " substrate blanks " produced by the chemical vapour deposition process, having any of the following: «Заготовки» из селенида цинка (ZnSe) и сульфида цинка (ZnS), полученные химическим осаждением паров, имеющие любую из следующих характеристик:

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